基于同步辐射和晶向可控生长的高储能密度弛豫铁电薄膜制备与性能优化研究

项目负责人孙正
依托单位天津理工大学
立项年份2020
学科分类物理电子学
资助来源国家自然科学基金
项目状态已立项
资助金额¥24.0万
批准号62001326

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