离子注入合成碳化硅的研究

项目负责人李恒德
依托单位清华大学
立项年份1999
学科分类金属材料使役行为与表面工程
资助来源国家自然科学基金
项目状态已立项
资助金额¥5.0万
批准号59920032

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