面向二次图形曝光技术的版图优化及切割算法研究

项目负责人姚海龙
依托单位清华大学
立项年份2011
学科分类集成电路器件、制造与封装
资助来源国家自然科学基金
项目状态已立项
资助金额¥25.0万
批准号61106104

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